Magyar kutatóknak, Tapasztó Leventének és munkatársainak sikerült először az MTA TTK Műszaki Fizikai és Anyagtudományi Intézetében (MFA) a grafén szerkezeti hullámosságát nanométer alatti pontossággal szabályozni. Ezzel messze meghaladták az addig elérhető legkisebb, 300 nanométeres hullámperiódust.
Magyarország a világ élvonalához tartozik a grafén kutatásában, illetve abban, hogy az anyagot felhasználhatóvá tegyék. A grafén jelentőségét a szintén szén alapú nanocsövekhez képest az adja, hogy ipari előállítása és alkalmazása elérhetőbbnek látszik. Az anyag segítségével eddig elképzelhetetlen technológiai megoldások nyílhatnak meg az emberiség előtt.
Az MFA nanoszerkezetek laboratóriumában ez immár a második olyan nanotechnológiai eljárás, amely új etalont állít fel a grafénkutatás területén. A korábban, szintén általuk kifejlesztett STM (pásztázó alagútmikroszkópiás) litográfiás nanomegmunkálási eljárás pontosságát (2,5 nm széles grafén szalag) a mai napig nem sikerült másnak elérnie.